Asml luo uusia euv-koneita tuleville 7nm + ja 5nm solmuille

TSMC: n, GlobalFoundriesin, Samsungin ja Intelin kaltaisten valmistajien takana on ASML: n kaltaisia ​​yrityksiä, jotka koneineen ja tekniikoillaan auttavat huippuluokan sirujen valmistuksessa. Tänään näyttää siltä, ​​että ASML: llä on käytössä uusi 410W EUV-kone, joka palvelee massatuotantoa CPU: ta ja GPU: ta 7 nm: n tai pienemmällä.

ASML valmistaa EUV (Extreme UltraViolet) -koneita, jotka ovat tärkeitä tuleville 7nm +, 5nm ja pienemmille solmuille

7nm on tulossa, ja se on tärkeä harppaus, joka vaikuttaa prosessorien ja näytönohjainten suorituskykyyn muiden segmenttien joukossa, mutta sen lisäksi piin valmistajat haluavat jatkaa solmujen valmistusprosessin parantamista. TSMC: llä on jo suunnitelmia ottaa käyttöön EUV (Extreme UltraViolet) -teknologia seuraavissa 7nm + -solmukoissa, mikä auttaa parantamaan tuotantoelementtejä ja parantamaan tiheyttä suuremmalla määrällä transistoreita.

Täällä EUV- koneet tulevat peliin ja ovat kriittisiä. Nykyään ASML- koneet pystyvät toimittamaan 250 W valoa, mutta suuremman tehon koneita tarvitaan luomaan EUV-piitä (siruja) nopeammin. Näiden koneiden lähdeteho osoittaa niiden fotonien lukumäärän, jotka voivat altistua piille tietyssä ajassa, mikä tarkoittaa, että korkeammat tehoyksiköt pystyvät saamaan työnsä piikiekkoon päätökseen nopeammin, kiihdyttäen tuotantoon.

Spectrum on ilmoittanut, että ASML on hankkinut koneen, jonka laboratorioissa on käynnissä 410 W: n EUV-virtalähde ja joka toimii potentiaalisena tukikohtana yrityksen seuraavan sukupolven EUV-koneille. Tällä hetkellä 410W-koneesi ei vielä pysty tuottamaan siruja, vaikka se on ehdottomasti tärkeä askel tässä tekniikassa, joka auttaa suuria piin valmistajia parantamaan tuotantoaan.

EUV- tekniikalla on paljon suurempi rooli tulevissa 5 nm: n tai sitä pienemmissä prosessisolmuissa, joissa ne ovat kriittisiä.