Ibm: llä olisi avain sirujen valmistukseen yli 7 nm

Big Blue on kehittänyt uusia materiaaleja ja prosesseja, jotka voivat auttaa parantamaan sirujen tuotannon tehokkuutta 7 nm solmulla ja tulevissa solmuissa.

IBM ja sen 'alueellinen selektiivinen kerrostuminen' pyrkivät parantamaan valmistustehokkuutta 7 nm: llä ja sen jälkeen

Big Blue -bofiinit toimivat alueella, jota kutsutaan " alueen selektiiviseksi laskeutumiseksi", mikä heidän mielestään voisi auttaa ylittämään litografisten tekniikoiden rajoitukset luoda pii piineille 7 nm prosessissa.

Tekniikat, kuten "monikuviointi", auttoivat varmistamaan, että integroidut piirit jatkoivat skaalaamista, mutta koska sirut ovat vähentyneet 28 nm: stä 7 nm: iin, siruvalmistajien on täytynyt käsitellä enemmän kerroksia yhä pienemmillä ominaisuuksilla, jotka vaativat tarkempi sijoittelu kuvioihin.

Yksi ongelmista on tasojen välinen kohdistaminen, että väärin tehdyssä muodossa se johtaa ”reunan sijoitusvirheeseen” (EPE). Intelin litografiaasiantuntija Yan Borodovsky totesi vuonna 2015 pöytäkirjassa, että tämä oli ongelma, jota litografia ei pystynyt ratkaisemaan.

Hän ehdotti, että selektiivinen alueen laskeuma oli parempi veto, joten IBM: n tutkijat alkoivat arvioida sitä.

IBM: n uusi tekniikka korvaa Samsungin EUV-tekniikan

Tämä voisi olla seuraaja EUV-litografialle, tekniikka, jota Samsung valmistelee seuraavaa 7 nm: n ja jopa 5 nm: n pelimerkkejä varten. Tämän ei pitäisi yllättää meitä, koska IBM valmisti ensimmäisenä maailmassa siruja 7 nanometrin solmussa vuonna 2015.

IBM: n Almadenin tutkimuskeskuksen tutkija Rudy Wojtecki kertoi, että perinteisillä valmistusmenetelmillä tämä edellyttäisi substraatin pinnoittamista resistiivisellä, resistiivisen mallintamista valotusvaiheessa, kuvan kehittämistä, epäorgaanisen kalvon kerrostamista ja sitten resistiivisen poistaminen, jotta saadaan sille kuvioitu epäorgaaninen materiaali.

Ryhmä käyttää yhtä kolmesta alue selektiivisen laskeutumisen päämenetelmästä, nimeltään ”atomikerrosten laskeuma”, keskittyen ”itse koottujen yksikerrosten” (SAM) käyttöön.

Se kaikki kuulostaa erittäin tekniseltä, tiedämme, mutta todennäköisesti se on prosessorien valmistuksen tulevaisuus tulevina vuosina, kun 7nm prosessorit osuivat tietokoneeseemme, mikä ei ole liian kaukana.

Fudzilla-fontti