Intel sijoittaa 5 miljardia dollaria tehtaaseen tuottaakseen 10 nm: ssä

Intel haluaa valmistautua siihen, mikä on tulossa, askeleen kohti 10 nm seuraaville prosessoreilleen, ja se tekee sen vahvasti, investoimalla yli 5 miljardia dollaria tehtaaseen, joka tulee Israeliin.

Intel panostaa voimakkaasti sirujen tuottamiseen 10 nm: n nopeudella

Israelin talousministeri Eli Cohen paljasti tänään, että Intelin kanssa käytyjen neuvottelujen jälkeen yritys jakoi suunnitelmansa investoida 5 miljardia dollaria Etelä-Israelissa sijaitsevaan Kiryat Gatin tehtaaseen.

Kiryat Gatin tehtaalla on tällä hetkellä työkalut ja välineet hakkeen valmistukseen aallonpituudella 22 nm. Sitä ei ehdottomasti käsitellä tällä hetkellä huipputeknisessä laitoksessa, mutta se on edelleen merkityksellinen yksinkertaisempien tekniikoiden puolijohdemarkkinoilla.

Tehdas sijaitsee Israelissa

Sillä investoinnilla, jonka Intel haluaa tehdä tähän tehtaaseen, se lisäisi teknologisia valmiuksia pystyäkseen valmistamaan siruja 10 nm: llä. Se, että tehdas sijaitsee Israelissa, on varmasti tekemistä joidenkin veroetujen kanssa, joista Israelin hallitus sopi yhdysvaltalaisen yrityksen kanssa, joista molemmat hyötyvät.

Ministeri totesi myös, että Intel aloittaa sijoituksensa tänä vuonna ja että vuonna 2020 on tarkoitus aloittaa täysi toiminta. Sijoitusten mukana tulee luonnollisesti verotusmahdollisuuksia ja hallituksen kannustimia, ja Intelin odotetaan saavan 10 prosentin tuen Israelin hallitukselta näiden investointien rahoittamiseen.

Tämä antaa meille jo vihjeen tulevista Intel-siruista, joita valmistetaan 10 nm: ssä ainakin vuoteen 2020-2021 saakka.

Techpowerup-fontti